2025年上海浦东新区高三一模化学试卷-学生用卷 一、填空题 1、蚀刻是半导体制造工艺中的重要步骤，其原理是通过物理或化学方法对材料(如、等)进行选择性的去除，蚀刻分为干法蚀刻和湿法蚀刻，和是干法蚀刻时常用的氯基气体。(1)蚀刻铝时发生了和的反应，这说明具有___________。 (2)蚀刻铝时的生成物之一可作净水剂，原因是它溶于水能形成胶体，下列关于胶体的认识，错误的是___________。 (3)已知硼是第2周期IIIA族的元素，下列关于硼的说法正确的是___________。 (...